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im电竞官网这种等离子体表面处理仪3个显著的特征

  • 的分类:公司动态
  • 小说家:等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-im电竞官网
  • 起源:低温等离子设备生产厂家
  • 推送的时间:2023-04-17
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【概述描(miao)术(shu)】im电竞官网这种等(deng)(deng)离(li)(li)(li)(li)子(zi)(zi)(zi)(zi)(zi)(zi)体(ti)(ti)(ti)表面(mian)处理(li)仪(yi)3个显(xian)著(zhu)的(de)(de)特征:        im电竞官网crf等(deng)(deng)离(li)(li)(li)(li)子(zi)(zi)(zi)(zi)(zi)(zi)表面(mian)处理(li)仪(yi)是(shi)在密闭容器中(zhong)设(she)置(zhi)2个电(dian)(dian)极(ji)产生(sheng)(sheng)电(dian)(dian)场,并使用真空泵实现一定的(de)(de)真空度(du)。随之(zhi)气体(ti)(ti)(ti)变得越来越薄(bo),分(fen)子(zi)(zi)(zi)(zi)(zi)(zi)间距(ju)和(he)分(fen)子(zi)(zi)(zi)(zi)(zi)(zi)或离(li)(li)(li)(li)子(zi)(zi)(zi)(zi)(zi)(zi)之(zhi)间的(de)(de)自由运动(dong)间距(ju)也变得越来越长。在电(dian)(dian)场的(de)(de)功效(xiao)下(xia),它(ta)们(men)碰撞产生(sheng)(sheng)等(deng)(deng)离(li)(li)(li)(li)子(zi)(zi)(zi)(zi)(zi)(zi),然后它(ta)们(men)会(hui)发出光(guang)泽(ze),因(yin)(yin)此(ci)被称(cheng)为光(guang)放(fang)电(dian)(dian)处理(li)。光(guang)放(fang)电(dian)(dian)时的(de)(de)气压对(dui)材(cai)(cai)料(liao)处理(li)有(you)(you)(you)很大的(de)(de)影响,这也与放(fang)电(dian)(dian)功率、气体(ti)(ti)(ti)成份、流速、材(cai)(cai)料(liao)类型(xing)等(deng)(deng)因(yin)(yin)素(su)有(you)(you)(you)关。 这种等(deng)(deng)离(li)(li)(li)(li)子(zi)(zi)(zi)(zi)(zi)(zi)体(ti)(ti)(ti)表面(mian)处理(li)仪(yi)有(you)(you)(you)3种显(xian)著(zhu)的(de)(de)特征: 1.等(deng)(deng)离(li)(li)(li)(li)子(zi)(zi)(zi)(zi)(zi)(zi)体(ti)(ti)(ti)表面(mian)处理(li)仪(yi)产生(sheng)(sheng)辉光(guang)现象,常称(cheng)为电(dian)(dian)弧放(fang)电(dian)(dian)。因(yin)(yin)为它(ta)是(shi)真空紫外光(guang),对(dui)蚀刻率有(you)(you)(you)非常积极(ji)的(de)(de)影响; 2.气体(ti)(ti)(ti)包括中(zhong)性(xing)(xing)粒(li)子(zi)(zi)(zi)(zi)(zi)(zi)、离(li)(li)(li)(li)子(zi)(zi)(zi)(zi)(zi)(zi)和(he)电(dian)(dian)子(zi)(zi)(zi)(zi)(zi)(zi)。由于中(zhong)性(xing)(xing)粒(li)子(zi)(zi)(zi)(zi)(zi)(zi)和(he)离(li)(li)(li)(li)子(zi)(zi)(zi)(zi)(zi)(zi)的(de)(de)温度(du)在102-103K之(zhi)间,与电(dian)(dian)子(zi)(zi)(zi)(zi)(zi)(zi)能量(liang)(liang)相对(dui)应(ying)的(de)(de)温度(du)高(gao)达105K,因(yin)(yin)此(ci)被称(cheng)为非平衡等(deng)(deng)离(li)(li)(li)(li)子(zi)(zi)(zi)(zi)(zi)(zi)或冷等(deng)(deng)离(li)(li)(li)(li)子(zi)(zi)(zi)(zi)(zi)(zi)。但(dan)它(ta)们(men)表现出电(dian)(dian)中(zhong)性(xing)(xing)和(he)准中(zhong)性(xing)(xing); 3.等(deng)(deng)离(li)(li)(li)(li)子(zi)(zi)(zi)(zi)(zi)(zi)体(ti)(ti)(ti)表面(mian)处理(li)仪(yi)产生(sheng)(sheng)的(de)(de)自由基和(he)离(li)(li)(li)(li)子(zi)(zi)(zi)(zi)(zi)(zi)活性(xing)(xing)很高(gao),其(qi)能量(liang)(liang)足以(yi)破(po)坏(huai)几(ji)乎所(suo)有(you)(you)(you)的(de)(de)化学(xue)键,并在任何的(de)(de)暴露(lu)的(de)(de)表层引起化学(xue)反应(ying)。等(deng)(deng)离(li)(li)(li)(li)子(zi)(zi)(zi)(zi)(zi)(zi)中(zhong)粒(li)子(zi)(zi)(zi)(zi)(zi)(zi)的(de)(de)能量(liang)(liang)一般约为几(ji)到(dao)几(ji)十(shi)个电(dian)(dian)子(zi)(zi)(zi)(zi)(zi)(zi)伏(fu)特,大于聚合物材(cai)(cai)料(liao)的(de)(de)组合键(几(ji)到(dao)十(shi)个电(dian)(dian)子(zi)(zi)(zi)(zi)(zi)(zi)伏(fu)特),可以(yi)破(po)坏(huai)有(you)(you)(you)机大分(fen)子(zi)(zi)(zi)(zi)(zi)(zi)的(de)(de)化学(xue)键,产生(sheng)(sheng)新键;但(dan)远低于高(gao)能放(fang)射性(xing)(xing)射线,仅涉(she)及材(cai)(cai)料(liao)表层,不影响基体(ti)(ti)(ti)的(de)(de)性(xing)(xing)能。

im电竞官网这种等离子体表面处理仪3个显著的特征

【内容(rong)提要文章的话】im电竞官网这种等离子体表面处理仪3个显著的特征:
       im电竞官网crf等离子表面处理仪是在密闭容器中设置2个电极产生电场,并使用真空泵实现一定的真空度。随之气体变得越来越薄,分子间距和分子或离子之间的自由运动间距也变得越来越长。在电场的功效下,它们碰撞产生等离子,然后它们会发出光泽,因此被称为光放电处理。光放电时的气压对材料处理有很大的影响,这也与放电功率、气体成份、流速、材料类型等因素有关。
这种等离子体表面处理仪有3种显著的特征:
1.等离子体表面处理仪产生辉光现象,常称为电弧放电。因为它是真空紫外光,对蚀刻率有非常积极的影响;
2.气体包括中性粒子、离子和电子。由于中性粒子和离子的温度在102-103K之间,与电子能量相对应的温度高达105K,因此被称为非平衡等离子或冷等离子。但它们表现出电中性和准中性;
3.等离子体表面处理仪产生的自由基和离子活性很高,其能量足以破坏几乎所有的化学键,并在任何的暴露的表层引起化学反应。等离子中粒子的能量一般约为几到几十个电子伏特,大于聚合物材料的组合键(几到十个电子伏特),可以破坏有机大分子的化学键,产生新键;但远低于高能放射性射线,仅涉及材料表层,不影响基体的性能。

  • 分为:公司动态
  • 作著:等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-im电竞官网
  • 源头:低温等离子设备生产厂家
  • 分享时间段:2023-04-17 18:13
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im电竞官网这种等离子体表面处理仪3个显著的特征:
       im电竞官网crf等离子表面处理仪是在密闭容器中设置2个电极产生电场,并使用真空泵实现一定的真空度。随之气体变得越来越薄,分子间距和分子或离子之间的自由运动间距也变得越来越长。在电场的功效下,它们碰撞产生等离子,然后它们会发出光泽,因此被称为光放电处理。光放电时的气压对材料处理有很大的影响,这也与放电功率、气体成份、流速、材料类型等因素有关。

等离子体表面处理仪这种等离子体表面处理仪有3种显著的特征:
1.等离子体表面处理仪产生辉光现象,常称为电弧放电。因为它是真空紫外光,对蚀刻率有非常积极的影响;
2.气体包括中性粒子、离子和电子。由于中性粒子和离子的温度在102-103K之间,与电子能量相对应的温度高达105K,因此被称为非平衡等离子或冷等离子。但它们表现出电中性和准中性;
3.等离子体表面处理仪产生的自由基和离子活性很高,其能量足以破坏几乎所有的化学键,并在任何的暴露的表层引起化学反应。等离子中粒子的能量一般约为几到几十个电子伏特,大于聚合物材料的组合键(几到十个电子伏特),可以破坏有机大分子的化学键,产生新键;但远低于高能放射性射线,仅涉及材料表层,不影响基体的性能。

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