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专业致力于提供电子行业的制造设备及工艺流程解决方案的plasma等离子体高新技术企业

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全一键On-Line式AP等铝离子办理平台 CRF-APO- 500W-XN
宽幅等离子清洗设备

全自动On-Line式AP等离子处理系统 CRF-APO- 500W-XN

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市场价
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浏览量:
1000
型号:
CRF-APO- 500W-XN
所属分类
宽幅系列
数量
-
+
库存:
0
宽幅等离子清洗设备
产品概述
参数
设备参数

产品特点

● 全自动等离子体清洗机应用于FPC&PCB表面处理,复合型材料,玻璃,ITO等行业领域的表面处理

● 知识产权定制的内嵌式式冷凝设施,增长和保证质量设施的便用使用时长和效果; ● 具备灵活性高On-Line按照玩法,电子技术和铝离子的激光能量高达10eV这,材质批治疗的率可多于低压力表辉光电流部件率10倍这。  

全自动等离子处理系统等离子体清洗机厂家等离子清洗技术具体应用:
1、高厚径比的双层软性板去胶渣、硬软融合板去胶渣改善孔边与镀铜层的粘接抗压强度,去除胶渣提升可靠性,避免里层镀铜后造成开路。
2、高频率沉铜特氟龙板前孔壁表层改性活性改善该孔壁与镀铜层结合力,避免了黑孔、爆孔状况。阻焊和字符前板活化有效地避免阻焊字符脱落。
3、HDI板上laser的通孔、盲/埋孔消除激光器烧灼的碳合物。不受孔径的规格规定,直径低于50μm的微孔板实际效果更加显著。
4、等离子体清洗机在细致制线时,除去干膜的薄膜残余。
5、硬软板复合型压合前PI表层钝化处理,柔性线路板加固前PI表层粗化处理抗拉力值可提升超出十倍。
6、化学沉金/电镀工艺前手指、焊盘表层清理消除阻焊油墨以及其它残渣,改进密着性。因为其可靠性,一些很大的软性板材加工厂已选用等离子全自动设备替代了传统式的磨板机。
7、化学沉金/电镀后,SMT前焊盘表层清除改进了可焊接性,避免了SMT前虚焊空焊率、上锡率低,提高了强度。
8、PCB板BGA封装前表层的清洗,打金线的预处理,EMC的预封装生产加工改走线/连线强度。
9、液晶LCD行业模组板清除金手指空气氧化及压合保护膜过程中的污染如漏胶等,偏光片贴合前清洗表层。
10、IC半导体材料行业半导体材料抛光片(Wafer),对氧化薄膜、有机化合物的除去;加工工艺过程中的COB/COG/COF/ACF等外部污染物的清洁,提升了密着性和可靠性。
11、LED行业打线Wire前焊盘面清洗,有机化合物除去。
12、和(he)(he)PTFE一样,塑胶(jiao)、玻璃(li)、瓷器(qi)和(he)(he)聚丙(bing)稀也(ye)没(mei)有机性(xing)的(de),因此(ci)这种材(cai)(cai)料需(xu)要在印刷(shua)、点胶(jiao)前开展等(deng)离子处理。玻璃(li)和(he)(he)瓷器(qi)表(biao)层也(ye)是(shi)有轻度的(de)金属材(cai)(cai)料污染(ran)可使用等(deng)离子体(ti)清洗机,硅胶(jiao)类功能键(jian)连接器(qi),聚合(he)物表(biao)层改性(xing)可提高印刷(shua)及(ji)其(qi)涂层附着(zhe)力。

未找到相应参数组,请于后台属性模板中添加
品牌(Name) 全会自动On-Line式AP等铁离子治理 整体
规格(Model) CRF-APS-500W-XN
开关电源(Power supply) 380V/AC,50/60Hz
等正离子功效(Power)
10KW(Max)/ 40KHz(Option)
更好净化处理间距(Processing height) 3-8mm(MAX)
有用补救宽幅(Processing width) 120-1200mm(Option)
外理效率(Processing speed) 0-8m/min
工作中空气(Gas)
N2/N2+CDA
 

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