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真空度式等铁离子除理设计 CRF-VPO-MC-6L
真空等离子设备

真空式等离子处理系统 CRF-VPO-MC-6L

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浏览量:
1000
型号:
CRF-VPO-MC -6L
所属分类
真空系列
数量
-
+
库存:
0
真空等离子设备
产品概述
参数
设备参数

产品特点

● 超大处理空间,提升处理产能,采用PLC+触摸屏控制系统,精准的控制设备运行;
● 可按照客户要求定制设备腔体容量和层数,满足客户的需求;保养维修成本低,便于客户成本控制;
● 高精度,快响应,良好的操控性和兼容性,完善的功能和专业的技术支持。
 

应用范围

真空等离子清洗机适用于印制线路板行业,半导体IC领域,硅胶、塑胶、聚合体领域,汽车电子行业,航空工业等。印制线路板行业:高频板表面活化,多层板表面清洁、去钻污,软板、软硬结合板表面清洁、去钻污,软板补强前活化。半导体IC领域:COB、COG、COF、ACF工艺,用于打线、焊接前的清洗;硅胶、塑胶、聚合体领域硅胶、塑胶、聚合体的表面粗化、刻蚀、活(huo)化。

  真空泵等阳正亚铁阴正亚铁离子补救仪器又被通称等阳正亚铁阴正亚铁离子表皮补救器、等阳正亚铁阴正亚铁离子补救机,非常用来高精度的刷卡机仪器、印染厂、粉剂板材、汽年工业园、中国航空航天中国航空、废弃物整治等高新信息枝术互联网行业的活性酶类、改性材料。等阳正亚铁阴正亚铁离子体清洁枝术的是恒温等阳正亚铁阴正亚铁离子体的的运用,它是是属于干试环保标准的补救仪器。等阳正亚铁阴正亚铁离子体清洁机基本是通过持续高温、高的频率率、低能等社会先决条件。


真(zhen)空等(deng)离(li)(li)子(zi)(zi)处理(li)(li)设备的(de)等(deng)离(li)(li)子(zi)(zi)处理(li)(li)是一个(ge)干躁的(de)过程。运用(yong)电(dian)能催化反应(ying),可提供低温工作环境,避免使用(yong)危险的(de)湿(shi)式化学清洗(xi)物质。它是属于安(an)全、靠谱、环保的(de),简易地说等(deng)离(li)(li)子(zi)(zi)体清洗(xi)技(ji)术融合(he)了等(deng)离(li)(li)子(zi)(zi)体物理(li)(li)、化学和固态(tai)表(biao)面反应(ying),能合(he)理(li)(li)有效地消除材料表(biao)层(ceng)的(de)残(can)留污染物,确保材料表(biao)层(ceng)和本身特性(xing)不受(shou)影响。


真空等(deng)(deng)(deng)(deng)离子处(chu)理设备(bei)(bei)的(de)等(deng)(deng)(deng)(deng)离子清理技术对(dui)半(ban)导体(ti)(ti)材(cai)料(liao)(liao)、金属(shu)材(cai)料(liao)(liao)及高(gao)分子大部分纤维材(cai)料(liao)(liao)具备(bei)(bei)优(you)良的(de)处(chu)理效(xiao)果,不管待处(chu)理的(de)材(cai)料(liao)(liao)形(xing)状如何,均可(ke)(ke)完成整体(ti)(ti)、指定(ding)的(de)局(ju)部及繁杂构造的(de)清洗(xi)。该加(jia)工工艺便于(yu)实现(xian)自动(dong)化(hua)和智(zhi)能化(hua),并装有高(gao)精密的(de)操纵设备(bei)(bei),能准(zhun)确控制时间,记忆点等(deng)(deng)(deng)(deng)作用。由于(yu)其实际操作简易(yi)、高(gao)精度、可(ke)(ke)操控性好(hao)环保(bao)等(deng)(deng)(deng)(deng)优(you)势,等(deng)(deng)(deng)(deng)离子体(ti)(ti)清洗(xi)技术的(de)材(cai)料(liao)(liao)表(biao)层改性、活化(hua)蚀刻等(deng)(deng)(deng)(deng)功能在众多(duo)行业(ye)获得了好(hao)评。使用等(deng)(deng)(deng)(deng)离子清洗(xi)机清洗(xi)后,材(cai)料(liao)(liao)表(biao)层没有残余,根据挑(tiao)选和配对(dui)不一样(yang)的(de)等(deng)(deng)(deng)(deng)离子清洗(xi)方法,能够做(zuo)到(dao)不一样(yang)清洗(xi)效(xiao)果,可(ke)(ke)以(yi)满足后续制作工艺对(dui)材(cai)料(liao)(liao)加(jia)工的(de)各种各样(yang)要求。因(yin)为等(deng)(deng)(deng)(deng)离子体(ti)(ti)的(de)专(zhuan)一性不强,对(dui)具备(bei)(bei)繁杂构造的(de)物件如凹陷、孔眼、皱褶等(deng)(deng)(deng)(deng)处(chu)理也(ye)能适应。

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标题(Name) 正空式等阴阳离子治理控制系统
规格(Model)
CRF-VPO-MC -6L
有效控制整体(Control system) PLC+液晶屏屏
开关电源(Power supply) 380V/AC,50/60Hz, 3kw
微波射频供电马力(RF Power) 2000W/40kHz
储电量(Volume ) 235L(Option)
柱高(Electrode of plies ) 6(Option)
行之有效操作面積(Area) 500(L)*500(W)(Option)
有机废气气体工作区(Gas) 两路口运行空气能选:Ar、N2、H2、CF4、O2
造型(Appearance ) 扳金架构
 

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